| 额定温度 | 1100（℃） |
|---|---|
| 主要用途 | 急速退火与镀膜 |
| 产品认证 | CE认证 |
| 加工定制 | 是 |
| 最大电压 | 220（V） |
| 功率 | 15000（W） |
| 品牌 | 成仪 |
| 型号 | RTP1100 |
快速热处理退火炉简称 RTP（Rapid Thermal Processing Furnace），由我公司借鉴了国际先进制造工艺，在管式炉的基础上自主研发而成，不但拥有极快的升温速率100℃/S，而且降温速率也有了质的飞跃，降温速率100℃/S。我们的工程师们巧妙地利用了冷壁工艺，以至于达到如此快的降温速度。真正的极速升温和极速降温！
腔体采用了独有双层石英管结构，外层管进气，内层管出气，使得反应气氛与加工样品充分而均匀地接触。
加热灯管之所以能够让硅片快速升温，是因为光源波长在0.3-4微米之间，石英管壁无法有效吸收这一波段的辐射，而晶片则正好相反。因此，晶片可以吸收辐射能量快速加热，而此时石英管壁仍维持低温，即所谓冷壁工艺。
应用领域：
Ø 快速热退火 (RTA); 离子注入后退火
Ø 石墨烯等气象沉积，碳纳米管等外延生长
Ø 快速热氧化 (,RTO); 热氮化 (RTN);
Ø 硅化 (Silicidation);
Ø 扩散 (Diffusion);
Ø 离子注入后退火 (Implant Annealing);
Ø 电极合金化 (Contact Alloying);
Ø 晶向化和坚化 (Crystallization and Densification);
主要特点：
Ø 极速升温100℃/S，极速降温100℃/S；
Ø 双层炉管结构，气氛与样品接触更均匀；
Ø 直接测量样品表面温度，测温更**；
Ø 炉膛根据设置可自动左右移动，可以满足更多的实验应用；
Ø 真空度可达9.8×10-4Pa；
技术参数：
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