| 尺寸 | 其他 |
|---|---|
| 额定温度 | 其他 |
| 功率 | 无 |
| 最大电压 | 无 |
| 品牌 | 其他 |
| 型号 | RTP-100 |
| 加工定制 | 否 |
RTP-100/RTP-100-HV真空快速退火炉
应用于4英寸的真空/高真空快速退火应用
应用领域：
离子注入/接触退火；
快速热处理(RTP)，快速退火(RTA)，快速热氧化(RTO)，快速热氮化(RTN)；
可在真空、惰性气氛、氧气、氢气、混合气等不同气体氛围环境下使用；
SiAu, SiAl, SiMo合金化；
低介电材料；
晶体化，致密化；
太阳能电池片键合；
电阻烧结
其他热工艺需求
等等...
产品特点：
真空快速退火炉，有RTP-100型号 低真空(10-3 hPa) RTP-100-HV 高真空(10-6 hPa)； 可应用在不同气氛环境下使用，如惰性气体、氧气、氢氮混合气等； 控制方式：SPS人机界面控制，7英寸触摸屏控制； 可存储50个程序，每个程序最多分为50步骤控制； 全自动智能控制，包括温度、时间、气体流量、真空度、冷却水均可自动设置； 优异的温控均匀性，极佳的工艺重复性；
技术规格：
最高温度：1200℃； 升温速率：150℃/秒； 降温速度：200℃/分钟 (1000℃-->400℃)； 温控均匀性：≤ 1.5%设定温度； 加热方式：红外卤素灯，顶部及底部加热，也可单独控制加热 灯管数量及功率：18支/20KW腔体冷却：水冷方式，独立冷却源
衬底冷却：氮气吹扫；
工艺气路：MFC控制，最多4路 (氮气、氩气、氧气、氢氮混合气等)；